適用于半導(dǎo)體等微電子設(shè)備制造商的Edwards真空泵系統(tǒng)
2021.06.03
· 半導(dǎo)體加工
我們繼續(xù)革新技術(shù)解決方案，這些解決方案將會提升制程正常運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間、產(chǎn)量、吞吐量與安全認(rèn)證水平，同時(shí)通過減輕不利于環(huán)境的排放、延長產(chǎn)品使用壽命并降低持續(xù)服務(wù)成本，努力協(xié)調(diào)平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。
所有居于地位的制程工具 OEM，以及全球每一家主要半導(dǎo)體工廠都采用了我們的系統(tǒng)，因?yàn)樗鼈兡軌驖M足成熟制程與發(fā)展中制程的具體要求。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點(diǎn)減排系統(tǒng)等各種系統(tǒng)，用來優(yōu)化從輕負(fù)荷制程到超重負(fù)荷制程的各項(xiàng)應(yīng)用的性能表現(xiàn)。
· 平版印刷
平版印刷（即晶圓的圖案形成）是半導(dǎo)體 制程中的一個(gè)關(guān)鍵步驟。雖然傳統(tǒng)甚至浸潤式平版印刷 一般不需要真空環(huán)境，但遠(yuǎn)紫外 (EUV) 平版印刷和電子束平版印刷卻需要真空 泵。Edwards 可以讓您有效應(yīng)對這兩種應(yīng)用。
EUV 平版印刷泵送解決方案
多重圖案形成技術(shù)有其存在的價(jià)值， 但以后可能需要使用 EUV 平版印刷，因?yàn)檩p型 EUV 系統(tǒng) 提供短的波長。要讓您的系統(tǒng)具有 性能，真空環(huán)境是關(guān)鍵。真空系統(tǒng)的 清潔性尤其重要，它有助于延長維修間隔。我們 與 EUV 平版印刷 OEM 和光源 OEM 合作開發(fā)了 精密真空系統(tǒng)，可為您進(jìn)行的大型投資提供 可靠性。
電子束平版印刷解決方案
電子束平版印刷在硅晶片的圖案形成中 具有重要作用。低振動(dòng)的清潔真空對于確保系統(tǒng)的精密性 和長正常運(yùn)行時(shí)間至關(guān)重要。
我們的產(chǎn)品解決方案
您可能需要使用渦輪分子泵 (TMP) 以便 在您的制程工具上實(shí)現(xiàn)超高真空。我們的 STP 系列 TMP 采用 完全磁懸浮轉(zhuǎn)子以降低艙室污染風(fēng)險(xiǎn)并延長 維修間隔。目前開發(fā)的產(chǎn)品通過將控制器集成到 泵本身中來降低總成本和占地面積，不再需要 外部控制器和控制器與泵之間的沉重控制 電纜。
化學(xué)氣相沉淀
化學(xué)氣相沉淀 (CVD) 系統(tǒng)具有 多種配置用于沉積多種類型的薄膜。制程 還以不同的壓力和流量狀態(tài)運(yùn)行，其中的許多狀態(tài) 都使用含氟的干燥清潔制程。所有這些可變因素意味著您 需要咨詢我們的應(yīng)用工程師之一來選擇適當(dāng)?shù)谋?和氣體減排系統(tǒng)以便地延長我們產(chǎn)品的維修間隔并 延長您制程的正常運(yùn)行時(shí)間。
干泵選擇
CVD 制程通常需要通過選擇適當(dāng)?shù)?干泵產(chǎn)品來克服四個(gè)特定挑戰(zhàn)。這些挑戰(zhàn)是：
粉末
許多制程會產(chǎn)生 大量粉末副產(chǎn)品。需要將真空泵設(shè)計(jì)成 能夠處理這些粉末而不被卡住。在某些情況下，粉末實(shí)際上可能 很粘或需要高溫運(yùn)行才能確保粉末中夾帶的其他 副產(chǎn)品不在泵內(nèi)部冷凝并卡住泵機(jī)構(gòu)。 對于幾乎所有產(chǎn)生粉末的制程，您將不得不使用 采用高扭矩電機(jī)的泵，以確保泵在應(yīng)力下保持 旋轉(zhuǎn)。
冷凝
半導(dǎo)體 制程的某些副產(chǎn)品含有氣體，當(dāng)氣體分壓 增加或與冷表面接觸時(shí)，這些氣體會從氣 相變?yōu)楣滔唷Ｔ诒盟瓦@些副產(chǎn)品時(shí)， 您將需要非常熱的泵，是從入口到出口 具有盡可能一致的溫度分布的泵。
腐蝕
有些制程 需要泵送鹵化物。尤其是需要含氟的清潔制程來 保持艙室的清潔性，但被激活的氟自由基 可能會侵蝕泵的內(nèi)表面。如果制程主要使用 可能對泵造成腐蝕的化學(xué)品，您需要確?？梢?將泵溫度設(shè)置為一個(gè)較低值以降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。我們的泵設(shè)計(jì) 具有可選的溫度設(shè)定點(diǎn)和高旋轉(zhuǎn) 速度以降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)并降低泵中不可避免 發(fā)生的總體材料損失速率。對于某些 CVD 制程，需要在溫度設(shè)定點(diǎn)上 達(dá)到平衡，以確保避免冷凝問題， 同時(shí)不使腐蝕速度過高。
金屬電鍍
如今的某些 制程使用金屬有機(jī)前體物，當(dāng)這些金屬有機(jī)前體物通過艙室時(shí)， 它們會產(chǎn)生一些副產(chǎn)品，有可能將其金屬物沉積 到泵表面上。對于這些應(yīng)用，通常使用低溫泵以便確保 長的維修間隔。
氣體減排選擇
每個(gè) CVD 制程都需要某種形式的氣體減排 設(shè)備，以便可以將有毒和危險(xiǎn)的制程副產(chǎn)品安全地 轉(zhuǎn)換為可任意處理的元素。我們對我們的燃料燃燒 廢氣管理設(shè)備倍感驕傲，因?yàn)樗鼈兡軌蛴行У?將副產(chǎn)品強(qiáng)制重組為安全的化合物。有了多入口 燃料燃燒能力，當(dāng)您不需要對制程廢氣進(jìn)行除害處理時(shí)， 您可以通過關(guān)閉主燃燒器來快速部署環(huán)保模式。
集成式系統(tǒng)和生產(chǎn)層解決方案
僅僅有泵和氣體減排設(shè)備，您 仍然不能隨時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)您的制程。您將需要連接泵排氣管道、 連接管道加熱器（如果需要）、鋪設(shè)供水管道、吹掃管道和 電氣線路，然后讓所有控制信號準(zhǔn)備就緒。您還 必須考慮雙殼體、氣體泄漏檢測以及在進(jìn)行工具維護(hù)后 如何進(jìn)行泄漏檢查。所有這些事宜都將占用您的 設(shè)計(jì)時(shí)間和資金。我們了解問題所在，因此開發(fā)了集成的、 特定于制程的解決方案。
我們的集成式系統(tǒng)已針對大多數(shù)半導(dǎo)體 CVD 制程進(jìn)行預(yù)設(shè)計(jì)。排氣加熱器針對適當(dāng)溫度 進(jìn)行設(shè)置以便地降低成本和延長正常運(yùn)行時(shí)間。我們 在需要的位置安裝泄漏檢查端口和閘閥。我們可以 在裝置內(nèi)安裝有毒氣體傳感器并密封整個(gè)系統(tǒng)， 重要的是，您只需要提供每種所需的水電設(shè)施。我們 會根據(jù)需要分配吹掃、水、電和控制信號并打造隨時(shí)可 投入使用
我們繼續(xù)革新技術(shù)解決方案，這些解決方案將會提升制程正常運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間、產(chǎn)量、吞吐量與安全認(rèn)證水平，同時(shí)通過減輕不利于環(huán)境的排放、延長產(chǎn)品使用壽命并降低持續(xù)服務(wù)成本，努力協(xié)調(diào)平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。
所有居于地位的制程工具 OEM，以及全球每一家主要半導(dǎo)體工廠都采用了我們的系統(tǒng)，因?yàn)樗鼈兡軌驖M足成熟制程與發(fā)展中制程的具體要求。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點(diǎn)減排系統(tǒng)等各種系統(tǒng)，用來優(yōu)化從輕負(fù)荷制程到超重負(fù)荷制程的各項(xiàng)應(yīng)用的性能表現(xiàn)。
· 平版印刷
平版印刷（即晶圓的圖案形成）是半導(dǎo)體 制程中的一個(gè)關(guān)鍵步驟。雖然傳統(tǒng)甚至浸潤式平版印刷 一般不需要真空環(huán)境，但遠(yuǎn)紫外 (EUV) 平版印刷和電子束平版印刷卻需要真空 泵。Edwards 可以讓您有效應(yīng)對這兩種應(yīng)用。
EUV 平版印刷泵送解決方案
多重圖案形成技術(shù)有其存在的價(jià)值， 但以后可能需要使用 EUV 平版印刷，因?yàn)檩p型 EUV 系統(tǒng) 提供短的波長。要讓您的系統(tǒng)具有 性能，真空環(huán)境是關(guān)鍵。真空系統(tǒng)的 清潔性尤其重要，它有助于延長維修間隔。我們 與 EUV 平版印刷 OEM 和光源 OEM 合作開發(fā)了 精密真空系統(tǒng)，可為您進(jìn)行的大型投資提供 可靠性。
電子束平版印刷解決方案
電子束平版印刷在硅晶片的圖案形成中 具有重要作用。低振動(dòng)的清潔真空對于確保系統(tǒng)的精密性 和長正常運(yùn)行時(shí)間至關(guān)重要。
我們的產(chǎn)品解決方案
您可能需要使用渦輪分子泵 (TMP) 以便 在您的制程工具上實(shí)現(xiàn)超高真空。我們的 STP 系列 TMP 采用 完全磁懸浮轉(zhuǎn)子以降低艙室污染風(fēng)險(xiǎn)并延長 維修間隔。目前開發(fā)的產(chǎn)品通過將控制器集成到 泵本身中來降低總成本和占地面積，不再需要 外部控制器和控制器與泵之間的沉重控制 電纜。
化學(xué)氣相沉淀
化學(xué)氣相沉淀 (CVD) 系統(tǒng)具有 多種配置用于沉積多種類型的薄膜。制程 還以不同的壓力和流量狀態(tài)運(yùn)行，其中的許多狀態(tài) 都使用含氟的干燥清潔制程。所有這些可變因素意味著您 需要咨詢我們的應(yīng)用工程師之一來選擇適當(dāng)?shù)谋?和氣體減排系統(tǒng)以便地延長我們產(chǎn)品的維修間隔并 延長您制程的正常運(yùn)行時(shí)間。
干泵選擇
CVD 制程通常需要通過選擇適當(dāng)?shù)?干泵產(chǎn)品來克服四個(gè)特定挑戰(zhàn)。這些挑戰(zhàn)是：
粉末
許多制程會產(chǎn)生 大量粉末副產(chǎn)品。需要將真空泵設(shè)計(jì)成 能夠處理這些粉末而不被卡住。在某些情況下，粉末實(shí)際上可能 很粘或需要高溫運(yùn)行才能確保粉末中夾帶的其他 副產(chǎn)品不在泵內(nèi)部冷凝并卡住泵機(jī)構(gòu)。 對于幾乎所有產(chǎn)生粉末的制程，您將不得不使用 采用高扭矩電機(jī)的泵，以確保泵在應(yīng)力下保持 旋轉(zhuǎn)。
冷凝
半導(dǎo)體 制程的某些副產(chǎn)品含有氣體，當(dāng)氣體分壓 增加或與冷表面接觸時(shí)，這些氣體會從氣 相變?yōu)楣滔唷Ｔ诒盟瓦@些副產(chǎn)品時(shí)， 您將需要非常熱的泵，是從入口到出口 具有盡可能一致的溫度分布的泵。
腐蝕
有些制程 需要泵送鹵化物。尤其是需要含氟的清潔制程來 保持艙室的清潔性，但被激活的氟自由基 可能會侵蝕泵的內(nèi)表面。如果制程主要使用 可能對泵造成腐蝕的化學(xué)品，您需要確?？梢?將泵溫度設(shè)置為一個(gè)較低值以降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。我們的泵設(shè)計(jì) 具有可選的溫度設(shè)定點(diǎn)和高旋轉(zhuǎn) 速度以降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)并降低泵中不可避免 發(fā)生的總體材料損失速率。對于某些 CVD 制程，需要在溫度設(shè)定點(diǎn)上 達(dá)到平衡，以確保避免冷凝問題， 同時(shí)不使腐蝕速度過高。
金屬電鍍
如今的某些 制程使用金屬有機(jī)前體物，當(dāng)這些金屬有機(jī)前體物通過艙室時(shí)， 它們會產(chǎn)生一些副產(chǎn)品，有可能將其金屬物沉積 到泵表面上。對于這些應(yīng)用，通常使用低溫泵以便確保 長的維修間隔。
氣體減排選擇
每個(gè) CVD 制程都需要某種形式的氣體減排 設(shè)備，以便可以將有毒和危險(xiǎn)的制程副產(chǎn)品安全地 轉(zhuǎn)換為可任意處理的元素。我們對我們的燃料燃燒 廢氣管理設(shè)備倍感驕傲，因?yàn)樗鼈兡軌蛴行У?將副產(chǎn)品強(qiáng)制重組為安全的化合物。有了多入口 燃料燃燒能力，當(dāng)您不需要對制程廢氣進(jìn)行除害處理時(shí)， 您可以通過關(guān)閉主燃燒器來快速部署環(huán)保模式。
集成式系統(tǒng)和生產(chǎn)層解決方案
僅僅有泵和氣體減排設(shè)備，您 仍然不能隨時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)您的制程。您將需要連接泵排氣管道、 連接管道加熱器（如果需要）、鋪設(shè)供水管道、吹掃管道和 電氣線路，然后讓所有控制信號準(zhǔn)備就緒。您還 必須考慮雙殼體、氣體泄漏檢測以及在進(jìn)行工具維護(hù)后 如何進(jìn)行泄漏檢查。所有這些事宜都將占用您的 設(shè)計(jì)時(shí)間和資金。我們了解問題所在，因此開發(fā)了集成的、 特定于制程的解決方案。
我們的集成式系統(tǒng)已針對大多數(shù)半導(dǎo)體 CVD 制程進(jìn)行預(yù)設(shè)計(jì)。排氣加熱器針對適當(dāng)溫度 進(jìn)行設(shè)置以便地降低成本和延長正常運(yùn)行時(shí)間。我們 在需要的位置安裝泄漏檢查端口和閘閥。我們可以 在裝置內(nèi)安裝有毒氣體傳感器并密封整個(gè)系統(tǒng)， 重要的是，您只需要提供每種所需的水電設(shè)施。我們 會根據(jù)需要分配吹掃、水、電和控制信號并打造隨時(shí)可 投入使用
